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- / 【會議回顧】KLA旗下 Filmetrics光反射膜厚儀線上研討會精彩回顧
精彩回顧
導語
Introduction
11月19日，優(yōu)尼康與行業(yè)巨頭KLA Instruments聯(lián)合舉辦的 “精準測量，賦能未來：KLA旗下 Filmetrics光反射膜厚儀原理及應用” 線上研討會圓滿結束，本次會議成功吸引了來自半導體、先進材料、科研院所等領域的眾多專家學者與技術同仁。共244人報名，182 人全程深度參與，線上互動高達 8296 次，以實實在在的數(shù)字，印證了業(yè)界對薄膜精準測量技術的高度關注。
在這場知識盛宴中，我們共同深入解析了光反射技術的核心原理，全面探討了其在應對測量一致性、復雜應用場景及效率提升等關鍵挑戰(zhàn)時的前沿解決方案。本文中整理了研討會所涉及到的所有問答，如果您想觀看直播回放，可以點擊下方按鈕進行跳轉，或者關注我們公眾號，文章或視頻號有完整直播回放。
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提問
&
解答
Answers
為什么有光譜反射儀但是沒有光譜橢偏儀測膜厚呢？另外四探針電阻測膜厚如果最上層是兩層不同的金屬，也可以用嗎？
目前KLA橢偏儀解決方案還是提供到Fab客戶的自動化產(chǎn)品，桌面式的橢偏儀還未加入KLA儀器部門。
四探針方阻儀測量膜厚的時候，如果是兩層金屬膜的話由于兩層膜相互導通，所以測得的結果是兩者導電性的一個加權平均。如果需要測量表面單個膜層，還是建議在膜層下方加入一個絕緣層避免混起來
和橢偏儀或其他膜厚測量技術相比，光反射膜厚儀的核心優(yōu)勢是什么？
您提的這個問題非常好，這其實是很核心的問題。和橢偏儀等其他技術相比，光反射膜厚儀的核心優(yōu)勢在于其操作的便捷性、寬量程和無損測量能力。它就像一臺“卡片相機”，操作非常簡便，用戶通常只需選擇材料即可快速獲得穩(wěn)定的厚度讀數(shù)，非常適合產(chǎn)線上的快速質量控制和常規(guī)檢測，而橢偏儀則更像一臺需要精細調試的“專業(yè)單反”，雖然能同時獲取厚度和折射率數(shù)據(jù)，精度更高，但需要對參數(shù)進行精準調試，才能獲得良好的結果，對操作者的專業(yè)要求也更高。在測量范圍上，光反射儀也更具彈性，橢偏儀通常覆蓋1納米到10微米，而光反射儀能更有效的測量從10納米至1毫米的厚度，應對更厚的薄膜游刃有余。更重要的是，它是一種非接觸的光學方法，完全不會破壞樣品，這既保證了產(chǎn)品的完整性，也使其能夠輕松集成到生產(chǎn)線中實現(xiàn)實時在線監(jiān)測，這一點是許多需要制樣或接觸式的技術（如臺階儀或掃描電鏡）所無法比擬的。因此，如果您的核心任務是進行快速、無損、大范圍的厚度監(jiān)控，而非深入研究材料的光學常數(shù)，那么光反射膜厚儀在便捷性、效率和適用性上就展現(xiàn)出了其不可替代的核心優(yōu)勢。
膜厚儀測量前對樣品有要求嗎？比如表面臟污或者不是樣品有一定的粗糙度。對結果影響大不大？
確實會有一定影響，但具體情況需要分析。對于表面臟污，可以將其視為一層額外的“薄膜”。在實際操作中，若待測膜層本身較厚，比如手機外殼上約10微米的陽極氧化層，那么附著其上的納米級指紋或油脂，由于厚度差異巨大，對結果的影響通常可忽略不計；但若測量的是100納米左右的超薄膜，類似的輕微污染就可能帶來明顯干擾。關于粗糙度，其影響與我們觀察的尺度密切相關：許多在宏觀上看似粗糙的樣品，當我們使用能提供十幾微米微小光斑的設備例如Filmetrics F40系列進行測量時，光斑所覆蓋的微小區(qū)域實際上可能是一個相對平整的點，因此能夠有效獲取許多看似粗糙樣品（如心臟支架、手機外殼陽極層）的膜厚數(shù)據(jù)。光反射膜厚儀原理核心在于探測膜層上下界面的光學反射信號，只要在測量點能形成有效的反射信號即可。當然，若樣品整體粗糙度極大，導致無法在任何點形成穩(wěn)定反射，測量自然就難以進行了。
目前我知道橢偏膜厚量設備目前有在fab端是有應用的，請問光反射膜厚測量設備有在fab端應用嗎？謝謝！
確實有應用。在芯片制造廠（Fab）中，光反射式膜厚儀根據(jù)工藝環(huán)節(jié)的不同，有著明確且重要的應用定位。在前道工藝中，例如在臺積電、中芯國際這類頂尖工廠里，對于超薄的介質層（如十幾納米的氧化硅、氮化硅），由于厚度已接近甚至低于光反射式設備建議的30納米理想起測線，因此更高精度的橢偏儀無疑是更合適的選擇。然而，對于許多厚度在百納米級至微米級的膜層，光反射設備則展現(xiàn)出巨大優(yōu)勢，一個典型的應用就是測量光刻膠的厚度。KLA的一些老機型，例如OP系列，本身就采用了將橢偏模塊和光反射模塊集成于一體的設計。以更好的兼顧Fab內不同工藝段的測量需求。而在后道封裝以及晶圓級制造領域，光反射設備的應用更為廣泛，因為該環(huán)節(jié)的膜層通常更厚，例如幾百納米的鈍化氧化硅、微米級的多晶硅，乃至研磨蠟等輔助材料的厚度，都是光反射式設備能夠高效、準確測量的范疇。
請問光反射膜厚測量設備最薄可以測到多少納米呀？多層透明的膜能測嗎？最多能測多少層？
關于最薄測量極限，設備在參數(shù)上確實可以支持低至1納米的測量，但這僅在極其理想的條件下才能實現(xiàn)。因為在這樣的尺度下，光學干涉已經(jīng)非常微弱，測量完全依賴于反射信號，任何微小的樣品翹曲、表面污染或環(huán)境干擾都會對結果產(chǎn)生顯著影響，導致測量值極不穩(wěn)定。因此，從實際應用和保證結果可靠性的角度出發(fā)，我們通常建議測量的厚度范圍從30納米以上開始。
對于多層膜測量，答案是肯定的，設備具備此能力。從原理上講，測量多層膜就是求解一個光學方程組——每增加一層，就增加一個需要求解的未知數(shù)。我們實際測過像AR Coating這樣十幾層的復雜膜系。但需要特別注意，層數(shù)越多，求解就越困難。這主要是因為光反射膜厚儀與橢偏儀的一個核心區(qū)別在于，它通常不直接測量折射率，而是依賴內置材料庫的固定折射率值來計算厚度。當膜層過多，特別是對于精密光學膜（其折射率可能并非恒定）時，僅憑反射光譜信號來同時求解所有層的厚度和折射率，會面臨方程解的不唯一性等挑戰(zhàn)，難以保證穩(wěn)定的測量精度。因此，雖然我們有測量十幾層的案例，但這屬于特殊情況。在常規(guī)的工業(yè)質量控制中，我們最推薦且結果最穩(wěn)定可靠的是測量三層及以內的膜層結構，例如車燈行業(yè)中的硬化層（hard coating）/滲透層，或者半導體中的氧化硅/氮化硅/氧化硅（ONO）結構。
剛有提到材料庫，我們經(jīng)常會測一些非標的或者新材料，數(shù)據(jù)庫里沒有參數(shù)怎么辦？儀器軟件支持我們自己建立和擬合模型嗎？過程復不復雜？
對于新材料或非標材料，我們的系統(tǒng)提供了非常靈活的解決方案。如果材料庫中沒有現(xiàn)成參數(shù)，您完全可以自行建立。這個過程并不復雜，您只需按照我們軟件要求的格式，在Excel表中準備好材料在不同波長下的折射率（n）和消光系數(shù)（k）數(shù)據(jù)，然后直接導入到軟件的材料庫中即可。之后測量時，就能直接調用您導入的數(shù)據(jù)來計算厚度。一個非常實用的方法是，如果您單位有橢偏儀，可以先用橢偏儀精確測量出新材料的折射率數(shù)據(jù)，再將其導入到我們的系統(tǒng)中，這樣就能實現(xiàn)數(shù)據(jù)的無縫銜接和高效利用。
我們的軟件內置了一定的折射率擬合功能，主要適用于符合Cauchy等經(jīng)典光學模型的常見介質材料，例如氧化硅、氮化硅及許多金屬氧化物/氮化物等。對于這類材料，您可以讓軟件對折射率進行輔助性的擬合。但需要說明的是，折射率擬合的精度和準確性不如專業(yè)的橢偏儀，因此我們主要將其作為參考。而如果用Filmetrics模型去擬合聚合物材料的話，此時軟件擬合的準確度就會不足了。
F54最小能測多大圖形？F54的物鏡都是選配的嗎？同一個硬件對不同倍率的物鏡是兼容的嗎？
F54在理論上可測量5微米，但為確保信號質量，一般建議在10微米以上進行測量。其根本原因在于測量依賴于光的反射信號——光斑尺寸越小，信號強度越弱、信噪比也隨之降低。此外，實際可測下限也與基底材質密切相關：在反射率較低的玻璃上可能需要20微米以上才能獲得穩(wěn)定信號，在硅片上10微米通常已足夠，而在高反射率的金屬基底上則有可能測至7微米左右。關于物鏡配置，F(xiàn)54系統(tǒng)提供多種選配物鏡以適應不同需求，例如常規(guī)的5倍、10倍及50倍顯微物鏡，其波長覆蓋400-850nm，適用于氧化硅、金屬氧化物等常規(guī)薄膜的測量；而對于超薄膜或特定應用，也可選配反射式物鏡，包括10倍、15倍等規(guī)格。所有物鏡均基于同一硬件平臺設計，因此主機完全支持不同倍率物鏡的直接更換與兼容使用，用戶可根據(jù)需要靈活選配，例如采用低倍物鏡進行大視場圖像識別快速定位，用高倍的物鏡進行小視場的微區(qū)厚度測量。此外，F(xiàn)54系列中除了標準型號，還有一款F54-XY型號，這是在Filmetrics被KLA收購后推出的升級產(chǎn)品，特別增強了自動圖像識別與定位功能（Deskew和Patten Rec），非常適合半導體芯片級應用。它能夠自動識別晶圓上的圖形結構，實現(xiàn)芯片自動定位與測量，大幅提升在如光電芯片等具有重復圖形結構的晶圓上進行多點厚度檢測的效率和準確性，目前已在士蘭，美迪凱等企業(yè)中得到實際應用。
柯西模型適合于透明薄膜，對于不透明的薄膜，光反射也適合嗎？
這是一個非常好的問題，它觸及了光學測量的一個核心概念。首先，我們需要從光學角度而非視覺感官來理解“透明”與“不透明”。我們的膜厚儀工作波段通常覆蓋190-1700納米，遠寬于人眼可見的400-780納米范圍。因此，許多在可見光下看似不透明的材料，在更寬的光譜范圍內可能表現(xiàn)出透光性。一個典型的例子是硅片，它在可見光下完全不透明，但在近紅外波段卻變得透明，足以讓光穿透并從下層界面反射回來，從而被光反射式膜厚儀測量。因此，測量的關鍵并非材料是否“看起來”透明，而在于被測材料在某個工作波段內，是否允許光線穿透薄膜本身，以獲取來自膜層底部界面的反射信號。只要能滿足這個條件，即使肉眼看來不透明的材料也同樣適用。反之，如果一種材料在整個光譜范圍內都完全不透光（如某些厚金屬），光無法穿透至膜層底部，那么反射法就無法測量其上的薄膜厚度了。
我們有個比較特殊的需求，需要測量一個弧面上的膜厚，咱們的設備有這種特殊測量模式或者配件嗎？
弧面的表層膜層厚度的測量，是一個比較有挑戰(zhàn)性的應用。具體要看弧面的曲率如何？打個比方，一般車燈行業(yè)的加硬層都是鍍在不同的車燈表面，且車燈表面也有具有一定的弧度的，這種情況下用接觸式探頭就可以很好的解決信號收集的問題。只要能收集到足夠的有效信號，就可以滿足具體的弧面測量需求。同時F40的微區(qū)測量模式，也可以一定程度上解決弧面膜層的應用問題。
我們經(jīng)常需要測同一批次的幾十個樣品來評估均勻性，你們的儀器有沒有配備自動樣品臺？設置一個自動測量的流程復雜不？
如果需要測量同一批次的許多樣品，來評估膜層均勻性，那么F50系列膜厚儀會是非常好的選擇。單片樣品的測量結果會直接顯示出表面膜層的厚度顯示示意圖，最大值，最小值，平均值，標準偏差，厚度范圍，均勻性等。
建立自動測量的配方并不是一個很復雜的過程，通常來說，我司工程師在應用支持過程中，會直接提供完善的測量配方。之后的測量只需要選擇對應的配方，點擊開始測量，就能得到包括均勻度在內的測量結果。
Si片外延多晶硅能測量嗎？能測量硅片是因為利用了紅外光嗎？
當然可以，而且是非常常見的應用。在半導體前端的硅片制造工藝中，Poly Si測量是一種需求十分廣泛的工藝節(jié)點。
對的。硅片對于可見光（400~850nm）來說不透明的，但是對于紅外光（850-1700nm）來說，又是透明的，也就是說紅外光可以穿透表面硅膜層。
我們現(xiàn)在在做柔性OLED，用的都是PET或者PI這種軟軟的基板，表面也不太平整。這種情況下，咱們的設備還能保持高精度測量嗎？有沒有什么特別的夾具或者測量技巧？
我們有對應夾具的。您提到的柔性、不平整基板確實是光學測量中的一個常見挑戰(zhàn)。對于這類樣品，我們不僅有相應的解決方案，而且在業(yè)內已有許多成功案例。您的問題其核心點在于如何把精密的柔軟樣品變的平整。光反射法測量要求光路垂直于樣品表面，為此我們推薦使用專用夾具將柔性基板穩(wěn)定地固定并展平，從而人為創(chuàng)造一個局部的理想測量平面。同時，結合前面李老師提到的Filmetrics F40系列設備。利用它的微小光斑精準定位在微米級的、相對平整的區(qū)域進行測試，再通過多點測量取統(tǒng)計分析值來保證結果的代表性與可靠性。因此，雖然柔性基板帶來了特殊性，但通過“定制夾具”、“小光斑精準定位”與“多點統(tǒng)計”這一套方法，是完全可以實現(xiàn)高精度測量的。
光學法膜厚儀對環(huán)境適應性怎么樣？比如環(huán)境的振動或燈光的等是否會對測量的準確度產(chǎn)生影響？
光學膜厚儀對環(huán)境因素具有良好的適應性。在環(huán)境光方面，儀器在測量前會執(zhí)行背景基準采集工作，通過專門的信號處理算法能夠有效識別并消除日常照明等環(huán)境光的干擾，因此無需在暗室條件下即可正常工作。在抗振動方面，常規(guī)的環(huán)境振動對單次測量的準確度基本沒有影響，僅在長期連續(xù)測量時可能對重復性統(tǒng)計產(chǎn)生微小波動。當然，若在測量過程中遭遇劇烈振動（如猛烈撞擊工作臺），仍會對結果產(chǎn)生干擾?？傮w而言，該設備在大多數(shù)實驗室和工業(yè)環(huán)境中都能保持穩(wěn)定工作，而在存在顯著持續(xù)性振動的特殊工況下，配置專業(yè)防振臺則可作為進一步提升測量穩(wěn)定性的可靠保障方案。
對于心臟支架這種具有復雜三維網(wǎng)格結構的器械，你們的光反射膜厚儀如何確保在網(wǎng)格的每一個微小區(qū)域都能實現(xiàn)精準的涂層厚度測量？
心臟支架這類復雜結構，我們一般使用Filmetrics的F40系列，其極小的測量光斑與我們特殊研發(fā)的定位治具相結合的方式來實現(xiàn)精準測量。F40系列配備的低至5微米的顯微光斑，能夠精準地對準支架網(wǎng)格中的每一個微小區(qū)域進行獨立測量，有效避免因光斑過大而同時覆蓋多個結構所導致的數(shù)據(jù)混合失真。在此基礎上，我們專為這類異形器件開發(fā)的特殊測量治具，能夠穩(wěn)定裝夾樣品，并輔助操作人員快速、精確地將測量光斑定位到每一個指定的關鍵位置，實現(xiàn)高效、可控的手動精測，從而系統(tǒng)性地評估涂層在三維結構上的均勻性。如果您有此類應用，可以聯(lián)系我們，與技術專家溝通詳細的解決方案。
展示的這些圖片都是實際測量的案例嗎？能不能提供測樣服務？
是的，所有展示圖片均為我們使用Filmetrics設備實際測量的真實案例。光反射膜厚儀的應用范圍非常廣泛，除了在半導體領域的成熟應用外，還可用于許多特殊場景，例如實時測量空氣中水滴的厚度變化、空氣盒厚分析，乃至奢侈品皮包涂層的厚度測量等。我們非常樂意為您提供測樣支持，您可以選擇將樣品寄送至我們的實驗室，我們將安排專業(yè)設備進行測試并提供詳細報告；也歡迎您親臨我們的實驗室，現(xiàn)場進行技術交流與實測體驗。如有任何具體需求，歡迎隨時聯(lián)系我們做進一步溝通。
總結
正如本次問答所呈現(xiàn)的，薄膜測量的挑戰(zhàn)雖各不相同，但追求精準、高效與可靠的目標卻是一致的。無論您的問題是涉及測量的重復性與一致性、復雜新材料與結構的分析，還是將設備集成到自動化產(chǎn)線中，其背后都需要扎實的技術底蘊與豐富的應用經(jīng)驗作為支撐。
如果以上討論觸發(fā)了您更多的思考，或您正面臨類似的測量挑戰(zhàn)，我們的應用專家團隊隨時準備為您提供支持。 我們致力于將您的具體需求，轉化為可靠的測量解決方案。
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